Установка для исследования влияния плазменной обработки на фотоэлектронную эмиссию
Р.Р. Нагаплежева, М.М. Оракова
ФГБОУ ВО «Кабардино-Балкарский государственный университет имени Х.М. Бербекова»
DOI: 10.26456/pcascnn/2016.8.266
Оригинальная статья
Аннотация: Спроектирована и сконструирована схема установки для исследования влияния плазменной обработки на фотоэлектронную эмиссию.
Ключевые слова: плазма, фотоэлектронная эмиссия
- Нагаплежева Рузанна Руслановна – старший преподаватель кафедры электроники и информационных технологий, ФГБОУ ВО «Кабардино-Балкарский государственный университет имени Х.М. Бербекова»
- Оракова Мариям Мустафаевна – старший преподаватель кафедры электроники и информационных технологий, ФГБОУ ВО «Кабардино-Балкарский государственный университет имени Х.М. Бербекова»
Ссылка на статью:
Нагаплежева, Р.Р. Установка для исследования влияния плазменной обработки на фотоэлектронную эмиссию / Р.Р. Нагаплежева, М.М. Оракова // Физико-химические аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов. — 2016. — Вып. 8. — С. 266-268. DOI: 10.26456/pcascnn/2016.8.266.
Полный текст: загрузить PDF файл
Библиографический список:
1. Ветошкин, В.М. Экспериментальная установка для исследования вакуумно-плазменных процессов обработки кварца: дис. ... канд. техн. наук: 01.04.01: защищена 29.12.09 / Ветошкин Владимир Михайлович. – Ижевск: Удмуртский государственный
университет, 2009. – 138 с.