Влияние плазменной обработки на состав поверхности сапфира
Р.Р. Нагаплежева, А.М. Кармоков, Б.Н. Нагоев, М.М. Уянаева, В.К. Люев
ФГБОУ ВПО «КабардиноБалкарский государственный университет имени Х.М. Бербекова»
DOI: 10.26456/pcascnn/2015.7.387
Оригинальная статья
Аннотация: Проведена плазменная обработка поверхности сапфира. Исследован состав поверхности сапфира до и после плазменной обработки методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФЭС).
Ключевые слова: плазма, сапфир, РФЭС
- Нагаплежева Рузанна Руслановна – старший преподаватель кафедры МКТЭ, ФГБОУ ВПО «КабардиноБалкарский государственный университет имени Х.М. Бербекова»
- Кармоков Ахмед Мацевич – д.ф.-м.н., профессор, заведующий кафедры материалов и компонентов твердотельной электроники, ФГБОУ ВПО «КабардиноБалкарский государственный университет имени Х.М. Бербекова»
- Нагоев Борис Нагоевич – ведущий инженер – электроник кафедры МКТЭ, ФГБОУ ВПО «КабардиноБалкарский государственный университет имени Х.М. Бербекова»
- Уянаева Мариям Мустафаевна – старший преподаватель кафедры КТИМС, ФГБОУ ВПО «КабардиноБалкарский государственный университет имени Х.М. Бербекова»
- Люев Валерий Кашифович – к.ф.-м.н., доцент кафедры материалов и компонентов твердотельной электроники факультета микроэлектроники и компьютерных технологий, ФГБОУ ВПО «КабардиноБалкарский государственный университет имени Х.М. Бербекова»
Ссылка на статью:
Нагаплежева, Р.Р. Влияние плазменной обработки на состав поверхности сапфира / Р.Р. Нагаплежева, А.М. Кармоков, Б.Н. Нагоев, М.М. Уянаева, В.К. Люев // Физико-химические аспекты изучения кластеров, наноструктур и наноматериалов. — 2015. — Вып. 7. — С. 387-390. DOI: 10.26456/pcascnn/2015.7.387.
Полный текст: загрузить PDF файл
Библиографический список:
1. Данилин, Б.С. Вакуумно-плазменные процессы травления микроструктур / Б.С. Данилин, В.Ю. Киреев, В.И. Кузнецов // Электронная техника. Серия 6. Материалы. – 1983. – Вып. 8 (181). – С. 3-9.
2. Данилин, Б.С. Вакуумно-плазменные методы травления микроструктур. Ч. 1. Классификация и сопоставление процессов травления / Б.С. Данилин, В.Ю. Киреев, В.И. Кузнецов // Электронная техника. Серия 6. Материалы. – 1982. – Вып. 2 (163). –
С. 3-9.
3. Данилин, Б.С. Вакуумно-плазменные процессы травления микроструктур. Ч. 2. Рабочие газы / Б.С. Данилин, В.Ю. Киреев, В.И. Кузнецов // Электронная техника. Серия 6. Материалы. – 1982. – Вып. 4 (165). – С. 3-8.
4. Шафоростов, А. K-Alpha: РФЭС – система нового поколения / А. Шафоростов // Наноиндустрия. – 2009. – № 4. – С. 60-63.